逐层生长在材料和器件的精密调控中起着十分关键的作用。尽管在材料合成过程中逐层生长已经被广泛研究，但是由于缺乏原子尺度的直接观察因而其原子生长观点尚不明确。在本文中，中科院上海高研院的Beien Zhu和Yi Gao 与浙江大学的Yong Wang 等合作通过环境透射电镜和密度泛函理论计算提出了一种基于MoO₂（011）表面重构的逐层生长新模式。原位环境透射电镜结果表明，MoO₂的逐层生长经历了两个振荡的过程：（1）通过将重建层的一部分转化为内表面层形成原子壁架，然后（2）自发重建新形成的内表面部分。因此，在MoO₂的逐层生长过程中表面重构可以看作是一个中间阶段。在MoO₂溶解过程中也观察到类似的现象。

Jian Yu, Beien Zhu, Yi Gao, Yong Wang et al, Atomic Mechanism in Layer-by-Layer Growth via Surface Reconstruction, Nano Letters,2019

DOI: 10.1021/acs.nanolett.9b01934

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.9b01934