近年来，光催化抗菌疗法被证明可以有效地对抗耐药细菌。许多无机纳米系统已也被开发用于进行细菌感染的光催化治疗，但由于重金属存在一定的毒性风险，其进一步的应用也受到了很大的限制。有机半导体光催化材料具有良好的生物相容性、可调谐的电子结构、多样的结构、合适的带隙和低成本等众多优势，因此受到人们的广泛关注。西北大学刘晶教授团队、国家纳米科学中心陈春英团队和济南大学于欣博士团队合作，通过在C₃N₄表面原位重结晶PDINH得到了一种全有机复合光催化纳米材料C3N4/PDINH异质结构，该材料具有很高的光催化效率。实验结果表明，该复合结构的吸收光谱可以从紫外光扩展到近红外光(750 nm)，从而利用增强的光催化作用来产生更多的活性氧，因此其对革兰氏阴性菌和阳性菌都有很好的灭活作用，而对正常组织细胞的毒性则可以忽略不计。研究表明，该异质结构对感染金黄色葡萄球菌的小鼠真皮伤口感染伤口再生具有有效的促进作用。这种全有机异质结构在伤口消毒中具有广阔的应用前景。

Longwei Wang, Xin Yu, Jing Liu, Chunying Chen. et al. An All-Organic Semiconductor C₃N₄/PDINH Heterostructure with Advanced Antibacterial Photocatalytic Therapy Activity. Advanced Materials. 2019

DOI: 10.1002/adma.201901965

https://doi.org/10.1002/adma.201901965