2020年7月28日，韩国基础科学研究院/成均馆大学Young Hee Lee和国立釜山大学Se-Young Jeong等人在Nature Nanotechnology发表研究论文，提出了一种通过巧妙的CVD策略，通过铜硅合金的形成来控制晶圆级1-4层石墨烯薄膜的层数和晶体学取向堆叠。然而，这篇文章发表不到半年，就被人质疑造假。他们认为，这项工作留下了许多问题和疑问，主要包括：Young Hee Lee教授为韩国科学院院士、ACS Nano副主编，国际纳米材料领域的顶级科学家，还是韩国的11名国家学者（National Scholars）之一。一时间，引起科学界重要关注。近日，Young Hee Lee院士团队在Nature Nanotechnology正式发表勘误，对原论文中出现的几个错误进行更正，具体包括：1）原论文拓展数据图6中，图6d和图6c图片重复，这是因为不小心把图6c中3层石墨烯的拉曼数据当成4层石墨烯处理了。更正前后的图片如下：2）原论文拓展数据图7中，位置1和位置2图片重复，位置3和位置5图片重复，这是因为数据被错误地保存了两次，不小心就放错了。更正前后的图片如下：Van Luan Nguyen. Layer-controlled single-crystalline graphene film with stacking order via Cu–Si alloy formation, Nat. Nanotechnol., 2020, 15: 861-867.DOI: 10.1038/ s41565-020-0743-0https://www.nature.com/articles/s41565-020-0743-0https://www.nature.com/articles/s41565-020-00821-z
