ACS Catal:SCR催化还原中的Cu-CHA还原机理
纳米技术 纳米 2021-04-10

米兰理工学院Enrico Tronconi等报道了通过气相瞬态响应法(Transient Response Methods)、瞬态动力学分析等方法结合,对在Cu-CHA分子筛催化剂上的SCR还原反应中还原过程CuII→CuI进行机理研究,结果发现当Cu:NO:NH3:N2=1:1:1:1的条件,NO+NH3能够在较低温度区间(150~220 ℃)将CuII还原。发现CuII的还原动力学过程不随着CuII物种的改变而变化,而且发现CuII还原速率与CuII的二次方成正比,这种现象难以通过单一位点的还原机理进行解释。

本文要点:

(1)

在干燥、湿法(反应气体中含2 % H2O)催化反应过程中,在各种反应温度、空速、NO供给浓度条件,含有两种不同Cu担载量的Cu-CHA催化剂、商业Cu-CHA催化剂都符合二级反应动力学;在该反应中,H2O能够显著抑制CuII还原,降低反应的表观还原活化能能垒。

(2)

意义。本文研究首次解释了低温条件中Cu-CHA催化剂中的还原反应反应动力学,从机理上验证了双核CuII促进还原反应,从而为深入理解低温条件中的NH3-SCR反应中CuII还原机理。

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参考文献

Federica Gramigni, Nicole Daniela Nasello, Nicola Usberti, Umberto Iacobone, Tommaso Selleri, Wenshuo Hu, Shaojun Liu, Xiang Gao, Isabella Nova, and Enrico Tronconi*, Transient Kinetic Analysis of Low-Temperature NH3-SCR over Cu-CHA Catalysts Reveals a Quadratic Dependence of Cu Reduction Rates on CuII, ACS Catal. 2021, 11, 4821–4831

DOI: 10.1021/acscatal.0c05362

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acscatal.0c05362


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